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涡轮分子泵的工作原理，结构型式及其优缺点。

为了利用涡轮分子泵，获得清洁真空，国外多利用干式机械泵作其前级泵，构成无油的真空系统。然而，目前国内涡轮分子泵多以油封机械泵为其前级泵，构成了有油真空系统，如果操作不当，很难避免油蒸汽返流，对真空系统的污染。利用有油系统获得清洁真空，国内外都有一些有效防止返流的措施和成功的操作经验。

应用：当今，现代化的半导体行业中，越来越多地应用涡轮分子泵。如溅射、刻蚀、蒸发、注入、分子束外延、离子加工等设备都需要在真空环境下运行。又如电子显微镜，表面分析仪器，残余气体分析仪及氦质谱检漏仪等也经常使用涡轮分子泵来抽真空。此外，在宇宙模拟设备、核聚变装置、太阳能集热管镀膜生产线上也都改用大型涡轮分子泵或低温泵来代替油扩散泵系统，以防止油蒸汽的污染。

因此，很近十几年来，涡轮分子泵，在国内、外都得到了显著的改进和发展。在涡轮分子泵的应用日益增加干式的前级泵还没有大量普及和应用的情况下，有时还不得不用油封机械泵来作涡轮分子泵的前级泵。因此，针对这种现状，对涡轮分子泵的合理选用和正确操作是很重要的。

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在高真空抽气过程的起始阶段，泵的很大的未经烘烤的内表面会吸附水，然后再在较低的压力下重新释放出来。这种效应在无阀门的系统中更为明显，因为它可能比未暴露在压力高于150Pa的空气环境的有阀门的系统吸附更多的水蒸气。系统停机时，先关闭高真空阀，如果有液氮冷阱的话，还要将冷阱加热。在冷阱达到平衡温度后，关掉前级管道阀，再切断涡轮分子泵电动机的电源，使分子泵的转子减速。

一般来说，泵转子完全停止需要十分钟或更长的时间。在分子泵转子减速期间，来自前级管道的碳氢化合物和涡轮分子泵的润滑油蒸气会迅速地向泵的进气口上方区域扩散。为了防止机械泵油蒸气和涡轮分子泵润滑油蒸气的返流，在切断涡轮分子泵电动机的电源后，要用一股干燥的反向气流对分子泵进行放气。

例如，应该在泵转子速度下降到很大转速的50%左右时，在泵进气口上方的某处或在转子组件上部连续充入气或氮气，直到泵内压力达到大气压。通过从阀门3（见图1）充入气体就可适当地完成这一操作。当涡轮分子泵以额定速度运转时，不应经常充入压力为大气压的气流。这样做对轴的寿命是不利的。当前级管道阀关闭后，即可关掉机械泵系统，并用放气阀对机械泵内进行放气。停机后应立即关掉冷却水以防止内部冷凝。在正常工作时，可把水温调节到略高于来消除泵体外部可能形成的冷凝物。

分子泵的叶轮是高速旋转的精密件，在分子泵运转中，不允许固体杂物落到叶轮上,以避免损坏叶轮。也要防止大气突然冲入正在运转中的分子泵。因为这也有可能损坏叶轮，此外,分子泵运转过程中,要远离强磁场。结论改变氦质谱检漏仪的分子泵转速，检测信号值发生变化，仪器在运行时，分子泵转速改变后，只要改变漏率信号的修正系数，无需再次定标，即可保证检测漏率的准确性。

若仪器检测信号时，信号值偏小，可以考虑降低仪器的分子泵转速，来提高检测信号值，提高仪器的检测灵敏度。：涡轮分子泵应用于角分辨光电子能谱ARPES涡轮分子泵应用于角分辨光电子能谱ARPES。角分辨光电子能谱Angleresolvedphotoemissipectroscopy简称ARPES利用光电效应研究固体的电子结构.

光电子在真空飞行的过程中,被一个接受角度很小的能量分析器收集计数.角分辨光电子能谱主要由光源,电子分析器,样品控制台以及超高真空的获得和维护系统组成.分子泵广泛配套在真空系统已保证超高真空的获得,同时搭配残余气体分析仪PrismaPlus共同使用.

通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。