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在正常工作时，可把水温调节到略高于来消除泵体外部可能形成的冷凝物。

启动系统要先接通冷却水流，打开前级管道阀门，再同时启动机械泵和涡轮分子泵。在泵加速到额定转速（一般为5到10min）后，就可加注液氮冷阱。此后就可按上节所介绍的步骤对真空室进行抽气。所给出的不用高真空阀门的抽气系统的操作，要比有阀门的抽气系统简便得多。操作时，先打开冷却水和前级管道阀，并同时启动机械泵和涡轮分子泵。如粗抽泵选择得当，使真空室的粗抽时间等于加速时间，那么真空系统就能在没有泵油蒸气返流的情况下把真空室抽到其本底压力。

1-检漏接口阀；2-涡轮分子泵；3-放气阀；4-电离规；5-热传导规；6-真空管路阀；7-电磁放气阀；8-机械泵。图2 不用阀门的涡轮分子泵抽气系统无阀门系统在放气和停机时，首先关闭前级管道阀，等泵转速下降到很大转速的50%时再在泵的上方充入干燥气体。当系统充到大气压时应关闭放气阀门，否则会造成真空室过压。然后按上述介绍的方法关掉机械泵并停掉冷却水。

没有单设粗抽管路的涡轮分子泵系统的操作：先打开分子泵冷却系统和前级管路阀，并同时启动前级（粗抽）机械泵和涡轮分子泵。如果粗抽泵（前级泵）选择得当，使真空室的粗抽时间等于分子泵的加速（启动）时间，则真空系统就能在没有泵油蒸汽返流的情况下把真空室抽到其本底压力。

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为了确认磁场对分子泵工作的影响，德国卡尔斯鲁厄理工学院（）设计并执行了下面的测试：测试条件和装置被测分子泵的型号为TwisTorr304FSCFF6，使用一对亥姆霍兹线圈(直径120厘米)来产生包围整个泵的均匀磁场。使用20℃的冷却水对分子泵持续进行冷却；分子泵的控制器会自动调整电机电流，保持转子以恒定转速运行。

使用安装于分子泵口的红外温度计测量被测试分子泵的转子温度。使用连接到分子泵外壳的PT100热电阻测量定子的温度。测试过程试验期间，涡轮泵以满转速持续运行。初始的磁场设置为1mT，泵在该磁场下运行12个小时以稳定转子温度；然后关闭磁场，再运行12个小时以使转子降温；然后再分别把磁场设置为2mT，按照前面的步骤继续进行测试，直至磁场增加到7mT。

当磁场逐步增加后，被测分子泵转子的平衡温度也随之上升，当磁场强度为7mT时，平衡温度上升到100摄氏度左右（分子泵的很大允许温度为120度）。

另外，使用该测试平台测试了另一台其它品牌的分子泵，一系列的对比测试表明，分子泵在相同的磁场条件下转子的平衡温度明显较低（5mT时，低大约40度）。

半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响？

今天，小编将向大家介绍分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响，希望对大家有所帮助。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种泵。分子泵是获得高和超高的关键设备之一。

它被广泛应用于电子工业、表面工程、核能工业、等离子体技术、薄膜工程等工业领域和研究部门。它操作简单、启动时间短,在分子流区域内对各种气体的有效抽速几乎不变,对分子量高的气体压缩比高,可以获得清洁无油的高和超高环境。

分子泵是氦质谱检漏仪中获得高重要部位,是氦质谱检漏仪中不可或缺关键部件,分子泵性能直接影响检漏仪性能参数的好坏,分子泵的发展直接影响着氦质谱检漏技术。逆扩散型的检漏仪的检漏口是连接到高泵与低泵之间,所以被检试件的可检漏压力就是高真泵的前级耐压。如果试件压力超过这个压力,将使高泵不能正常工作。普通涡轮分子泵的前级耐压,一般不超过50Pa,远达不到高压检漏的要求。