潮州ULVAC高真空分子泵保养公司-广东潽拓光电

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随着各应用领域技术要求的不断提高，在涡轮分子泵系列方面持续开发，拥有抽速介于10到超过3000升/秒的完整涡轮分子泵产品系列，具有很高的和灵活的安装方式，从而使得各类应用，比如分析仪器、半导体、光学/玻璃、冶金、泄漏检测、科研设施、灯具等行业，都能找到与之匹配的订制产品型号。

尤其是此次推出的涡轮分子泵，使用了技术，特别适用于对振动敏感的应用。该技术能更有效地测试涡轮分子泵转子的平衡性能，确保了在这一领域的技术优势，并且为该公司的下一步发展提供了技术前瞻。所有的生物分子泵都是自催化系统，通过利用其催化分解化学燃料所释放的能量来维持细胞的生命活动。迄今为止已经报道了一些人工分子泵，但它们都是以光为驱动力燃料，或需要连续添加试剂或改变电势来维持运行。

在此，作者报道了一种催化驱动的人工分子泵，在“燃料”的存在下，能连续地将冠醚大环化合物从溶液中“串”到分子轴上，且不需要进一步的干预。只要有未反应完的“燃料”的存在，该过程就能一直进行。燃料全部消耗完后，冠醚会从不平衡的[4]轮烷上脱落，体系转变成很低能量的起始离散状态。该工作利用催化作用来驱动人工分子泵，在催化和分子机械层面开辟了新的研究方向。

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真空近年来陆续发布了多个型号的TwisTorr分子泵，该系列把分子泵的典型工作范围从高真空扩展到了超高真空。近日，针对一些对压缩比要求不高而气体流量很大的应用，真空又发布了谱拓系列分子泵。该系列包含305FSQ、305-ICQ，以及两个带有中间抽气口的型号305SF和305-ICSF。305FSQ和305SF通过独立的控制器供电和控制，而305-ICQ和305-ICSF具有集成于泵身的控制器，只需要为其提供24V电源即可工作。

很高450sccm的氮气流量

305FSQ和305SF可以处理很大450sccm的氮气流量，和很大500sccm的氢气/氦气流量，在同等抽速和功率的产品中，是要求高气体流量的科研和工业应用的理想选择。而具有集成式控制器的305-ICQ和305-ICSF也可以处理很大380sccm的氮气流量，和很大500sccm的氢气/氦气流量，可以应对绝大多数的仪器应用。

改进的转子结构

谱拓系列分子泵拥有的转子结构：比其他305分子泵增加了一级涡轮叶片，并采用了与其他305分子泵不同的牵引级。牵引级是专为大气载而设计的，它拥有更宽大的气体通道，解决了其他牵引级结构在高负载长期运行时发热集中的问题，可以承受持续的大气体流量，并可将前级耐压提高至16mbar。

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，ULVAC高真空分子泵保养公司，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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